[发明专利]离子印迹聚合物粒子的合成有效
申请号: | 200810176455.3 | 申请日: | 2003-12-31 |
公开(公告)号: | CN101418062A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 卡拉·拉玛克瑞什娜;玛丽·格莱蒂斯·约瑟夫;塔拉斯拉·普拉萨达·拉奥 | 申请(专利权)人: | 科学与工业研究委员会 |
主分类号: | C08F222/14 | 分类号: | C08F222/14;C08F220/14;C08F226/06;C08F2/00;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王达佐;韩克飞 |
地址: | 印度*** | 国省代码: | 印度;IN |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 合成含有金属离子识别部位的离子印迹聚合物材料。这些粒子是在有至少一种以三元配合物的形式的印迹金属离子存在的条件下通过功能单体和交联单体的共聚合成的。聚合反应通过γ-辐射(不用引发剂)或光化学聚合或热聚合(用引发剂,AIBN)进行。这些材料干燥后经过磨碎和筛滤来获得铒离子印迹聚合物粒子。该铒离子通过无机酸浸提从聚合物粒子中除去,留下聚合物粒子中的空腔/结合部位。所得到的聚合物粒子可用作从稀释的水溶液中选择性地富集铒离子的固相提取剂。 | ||
搜索关键词: | 离子 印迹 聚合物 粒子 合成 | ||
【主权项】:
1. 用于固相提取预浓缩铒离子的离子印迹聚合物粒子的合成方法,所述方法包括:(a)铒印迹离子与5,7-二氯-8-羟基喹啉和4-乙烯基吡啶形成混合配体三元配合物;(b)将所述三元配合物溶解于合适的成孔剂中,形成聚合前混合物;(c)将步骤(b)中的混合物与功能单体和交联单体结合,并通过γ-辐射或光化学聚合或热聚合进行聚合反应,得到聚合物材料,其中所述γ-辐射是作为功能单体的浓度的函数来进行,所述功能单体为甲基丙烯酸甲酯;(d)将步骤(c)中得到的聚合物材料磨碎、筛滤,制备铒离子印迹聚合物粒子;(e)用无机酸选择性地浸提步骤(d)的聚合物粒子中嵌入印迹离子的材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科学与工业研究委员会,未经科学与工业研究委员会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810176455.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。