[发明专利]有机金属化学气相沉积反应器

摘要

本发明提供了有机金属化学气相沉积(MOCVD)反应器，利用所述反应器，在使得沉积膜厚度均匀的同时，能够提高膜的沉积效率。MOCVD反应器(1)安装有基座(5)和导管(11)。基座(5)具有用于加热和承载衬底(20)的承载面。导管(11)用于将反应气体G引导到衬底(20)。基座5可以旋转，同时承载面朝向导管(11)内部。导管(11)具有管道(11b)和(11c)，其在点A4上游的导管端处合并。导管(11)的高度沿反应气体G流动方向，从点P1至点P2朝向导管下游端单调降低，从点P2至点P3保持不变，从点P3朝向下游单调降低。点P1位于点A4的上游，而点P3位于基座5上。

主权项

1. 一种使用反应气体在衬底上沉积膜的有机金属化学气相沉积反应器，所述有机金属化学气相沉积反应器包括：加热构件，所述加热构件具有用于加热衬底和承载衬底的承载面；和导管，所述导管用于将反应气体引导到衬底；其中所述加热构件是能够旋转的，且其承载面面向所述导管的内部；所述导管具有第一管道和第二管道，且所述第一管道和第二管道在承载面上游端的上游的所述导管端部合并；所述导管的高度沿反应气体流动方向，从第一点到第二点朝向下游单调降低，从第二点到第三点保持不变，从第三点朝向下游单调降低；和所述第一点位于在衬底承载位置的上游端的上游的承载面上，所述第三点位于所述加热构件上。