[发明专利]灰色调掩模的制造方法和灰色调掩模以及图案转印方法

摘要

本发明提供一种灰色调掩模的制造方法、灰色调掩模及图案转印方法。其中，准备在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜的灰色调掩模板，对该灰色调掩模板施加第一次构图，在包含被构图的遮光膜和露出的半透光膜的透明基板整个表面上形成抗蚀剂膜之后，通过进行第二次构图，在该半透光膜和该遮光膜上分别进行预定构图，从而形成灰色调掩模。并且，相对于所述第一次构图时的描绘光的所述遮光膜的表面反射率和相对于所述第二次构图时的描绘光的所述半透光膜的表面反射率的差，被调整为35％以下。

主权项

1、一种灰色调掩模的制造方法，所述灰色调掩模使曝光光线对被转印体的照射量按照部位选择地降低，并对被转印体上的光敏抗蚀剂形成含有残膜值不同的部分的所希望的转印图案，且该灰色调掩模具有透光部、遮光部以及透过曝光光线的一部分的半透光部，所述灰色调掩模的制造方法，其特征在于：准备在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜的灰色调掩模板，对该灰色调掩模板施加第一次构图，在包含被构图的遮光膜和露出的半透光膜的透明基板整个表面上形成抗蚀剂膜之后，通过实施第二次构图，对该半透光膜和该遮光膜分别进行预定的构图，从而形成灰色调掩模，相对于所述第一次构图时的描绘光的所述遮光膜的表面反射率与相对于所述第二次构图时的描绘光的所述半透光膜的表面反射率的差被调整为35％以下。