[发明专利]轮胎均一性分析系统及其分析方法无效
| 申请号： | 200810178966.9 | 申请日： | 2008-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN101620177A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 李元赫 | 申请（专利权）人： | 韩国轮胎株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 经志强;王艳江 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明目的在于提供一种轮胎均一性分析系统设备及其分析方法，该系统包括：光源，其用于对轮胎照射光；正弦衍射光栅，其配置在上述轮胎和光源之间；拍摄单元，其对显示有正弦图案的上述轮胎进行拍摄，上述正弦图案是由透过上述正弦衍射光栅的光源而形成的；分析设备，其对由上述拍摄单元所拍摄的轮胎的正弦图案进行分析并判断上述轮胎的均一性。由此，能够测量轮胎的无负荷状态下的半径变动、无负荷状态下的宽度变动、以及侧壁表面局部的变形等。这时，由于在一次拍摄到的图像上就能够对轮胎的均一性进行分析，因此，能够非常正确且迅速地测量轮胎的均一性。另外，由于不仅用画面还可以用定量的数值数据来表示测量结果，因此分析简便且有效。 | ||
| 搜索关键词： | 轮胎 均一 分析 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种轮胎均一性分析系统，其特征在于，具备：光源，其用于对轮胎照射光；正弦衍射光栅，其配置在上述轮胎和光源之间；拍摄单元，其对显示了正弦图案的上述轮胎进行拍摄，上述正弦图案是由透过上述正弦衍射光栅的光源而形成的；分析设备，其对由上述拍摄单元所拍摄的轮胎的正弦图案进行分析来判断上述轮胎的均一性。
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