[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200810179765.0 | 申请日： | 2008-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN101452220A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | S·N·L·冬德尔斯;N·顿凯特;L·H·J·斯迪文斯;R·范德汉姆;M·瑞蓬 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。具体地，本发明公开在浸没光刻设备中应用电浸湿控制浸没液体的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种浸没光刻设备，包括：表面，所述表面至少周期地接触浸没液体；和主动浸没液体控制系统，包括：第一电极，其电连接到将在所述表面上受控制的浸没液体，第二电极，其与所述表面结合并与位于所述表面上的浸没液体电隔离，和电压控制器，其构造成在第一和第二电极之间提供受控的电压差。
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