[发明专利]衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备有效
| 申请号： | 200810184298.0 | 申请日： | 2008-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101441419A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | J·A·M·阿尔贝蒂;G·P·M·范努恩;F·E·格伦斯密特;R·T·P·孔佩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/677 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器(例如预对准单元)传送至第二衬底保持器(例如光刻设备中的衬底台)的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 传送 方法 系统 光刻 投影设备 | ||
【主权项】：
1. 一种采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法，该方法包括：在所述第一衬底保持器上提供所述衬底；测量所述衬底的位置误差；在所测量的所述位置误差的基础上计算位置调整数据；根据所述位置调整数据相对于参考位置移动所述第二衬底保持器；根据所述传送数据并采用所述传送单元将衬底从第一衬底保持器传送到第二衬底保持器，并且将所述衬底放置到已移动的所述第二衬底保持器上。
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