[发明专利]具有肖特基二极管的高压半导体元件有效

专利信息
申请号: 200810185030.9 申请日: 2008-12-26
公开(公告)号: CN101764131A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 杜尚晖;蔡宏圣 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L27/12
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 任默闻
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种具有肖特基二极管的高压半导体元件,其包括一LDMOS元件包括:一半导体基底;一P-型体掺杂区于该基底的一第一区域中;一N-型漂移区于该基底的一第二区域中,且与P-型体掺杂区间存在一结;一绝缘区于基底上,定义出一主动区域;一阳极电极位于P-型体掺杂区露出的该区域上;一N-型浓掺杂区位于N-型漂移区中,且与绝缘区的一第二端接触;及一阴极电极位于N-型浓掺杂区上。一肖特基二极管元件包括:N-型漂移区于半导体基底的第一区域和一第二区域中;阳极电极位于N-型漂移区于半导体基底的第一区域上;N-型浓掺杂区位于N-型漂移区于半导体基底的第二区域中;及阴极电极位于N-型浓掺杂区上。
搜索关键词: 具有 肖特基 二极管 高压 半导体 元件
【主权项】:
一种整合肖特基二极管的高功率半导体元件,其特征在于,所述的整合肖特基二极管的高功率半导体元件包括:一第一元件,其包括:一半导体基底;一第一型体掺杂区于所述半导体基底的一第一区域中;一第二型漂移区于所述半导体基底的一第二区域中,且与所述第一型体掺杂区间存在一结;一绝缘区于所述半导体基底上,定义出一主动区域;一介电层于所述半导体基底表面,其第一端跨越所述绝缘区上的部分表面,且其第二端露出所述第一型体掺杂区的一区域;一第一电极位于所述第一型体掺杂区露出的部分区域上;一第二型浓掺杂区位于所述第二型漂移区中,且与所述绝缘区的一第二端接触;一第二电极位于所述第二型浓掺杂区上;及一第三电极位于所述介电层上;以及一第二元件,包括:一第二型漂移区于所述半导体基底的所述第一区域和所述一第二区域中;一第一电极位于所述第二型漂移区于所述半导体基底的所述第一区域上;一第二型浓掺杂区位于所述第二型漂移区于所述半导体基底的所述第二区域中;及一第二电极位于所述第二型浓掺杂区上。
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