[发明专利]清洁设备和浸没式光刻设备

摘要

本发明公开了一种清洁设备以及一种包括用于清洁一个或更多个表面的设备的浸没式光刻设备。所述清洁设备用于清洁浸没式光刻设备的衬底或组件。清洁设备可以包括等离子体原子团源、导管和原子团限制系统。等离子体原子团源可提供原子团流。导管可将来自等离子体原子团源的原子团供给将被清洁的表面。原子团限制系统可引导原子团以清洁所述表面的局部。清洁设备可包括旋转器且可构造为清洁衬底边缘。所述浸没式光刻设备可包括用于支撑衬底的衬底台和用于限制投影系统和衬底台和/或衬底之间的浸没流体的流体限制结构。

主权项

1. 一种清洁设备，用于清洁浸没式光刻设备的衬底或部件，该浸没式光刻设备包括用于支撑衬底的衬底台和用于在投影系统和衬底台和/或衬底之间限定浸没流体的流体限制系统，该清洁设备包括：等离子体原子团源，其用于提供原子团流；导管，用来将来自等离子体原子团源的原子团供给将被清洁的表面；以及原子团限制系统，用来引导原子团以清洁所述表面的局部。