[发明专利]气体注入单元和具有气体注入单元的薄膜沉积设备有效
申请号: | 200810187374.3 | 申请日: | 2008-12-30 |
公开(公告)号: | CN101481797A | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
发明(设计)人: | 李昌宰;权宁浩 | 申请(专利权)人: | 周星工程股份有限公司;ADS有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L51/00;H01L51/56;H01L21/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孟 锐 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种气体注入单元和具有所述气体注入单元的薄膜沉积设备。由于多种不同种类的有机材料可按顺序气化并由单一注入单元注入,因此多种不同种类的薄膜可在单一腔室中沉积。此外,可容易地控制所述注入器单元的气体注入结构。因此,即使当诸如衬底大小、所述腔室的工艺温度等工艺条件改变时,也可通过仅更换某些零部件而不是更换整个注入器单元而有效地响应于改变的工艺条件。 | ||
搜索关键词: | 气体 注入 单元 具有 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】:
1. 一种气体注入单元,其包括:供应管单元,其具有多个供应管,不同材料被供应到所述多个供应管;以及注入器单元,其连接到所述供应管单元,且具备与所述供应管连通的通路以及与所述通路连通并注入气体的一个或一个以上注入孔,其中至少一个热传递部件提供在所述通路上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的