[发明专利]全息光栅制作中实时监测曝光量的方法

摘要

全息光栅制作中实时监测曝光量的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种全息光栅制作中实时监测曝光量的方法。要解决的技术问题是提供一种全息光栅制作中曝光量实时监测的方法。技术方案为步骤一，配备一套全息光栅曝光装置；步骤二，配备一套精确控制全息光栅曝光量实时监测装置；步骤三，潜像光栅的制备并进行曝光量的实时监测；步骤四，确定曝光截止点。本发明在曝光过程中引入实时监测技术确定曝光截止点是一种简便有效的手段，使用曝光实时监测装置可以快速、精确地控制全息光栅曝光量，进而准确地确定最佳的曝光截止点，为全息光栅曝光工艺提供科学的理论指导和实验依据。

主权项

1、全息光栅制作中实时监测曝光量的方法，是通过在光栅基底表面涂有光致刻蚀剂，在干涉场内曝光形成潜像光栅，通过监测潜像光栅的衍射光的能量变化曲线监测曝光量；其特征在于：步骤一，配备一套全息光栅曝光装置；包括记录激光器(11)、平面反射镜(12)、空间滤波器(13)、准直反射镜(14)、第一调整反射镜(15)、第二调整反射镜(16)和光栅基底(20)；在记录激光器(11)的激光束传播方向的光轴上置有平面反射镜(12)，平面反射镜(12)与光轴成45°角安装；在平面反射镜(12)的反射光的光路上置有空间滤波器(13)，经过空间滤波器(13)后形成球面波；在球面波传播方向放置准直反射镜(14)，并且准直反射镜(14)的焦点位置位于球面波波源点，球面波波源点的位置在空间滤波器(13)的出口处，这样激光束经准直反射镜(14)后变为准直光束；在准直光束区域放置第一调整反射镜(15)和第二调整反射镜(16)，该准直光束经过第一调整反射镜(15)和第二调整反射镜(16)反射后分别变为第一束记录光(17)和第二束记录光(18)，这两束记录光的交汇区域形成了干涉场(19)；在干涉场(19)内放置光栅基底(20)，光栅基底(20)的位置就是全息光栅的曝光位置；步骤二，配备一套精确控制全息光栅曝光量实时监测装置；在步骤一所配备的全息光栅曝光装置中又加入了监测激光器(21)、光栅基底上形成的潜像光栅(22)、光电接收器(23)、数据处理系统(24)和显示器(25)，形成了全息光栅曝光量实时监测装置；监测激光器(21)的激光照射在潜像光栅(22)上，在潜像光栅(22)的衍射光方向放置光电接收器(23)，用以接收潜像光栅(22)的衍射光，并且光电接收器(23)只对监测光波长敏感而对记录光波长不敏感，光电接收器(23)接收到的信号经过数据处理系统(24)处理后在显示器(25)上显示衍射光的强弱变化曲线，利用该装置监测全息光栅的曝光量，曝光量从显示器(25)上显示的潜像光栅(22)的衍射光强弱变化得出；步骤三，潜像光栅的制备并进行曝光量的实时监测；将涂有光致抗蚀剂的光栅基底(20)置入全息光栅曝光量实时监测装置中干涉场(19)内光栅基底(20)的位置被曝光后，在光栅基底(20)表面形成潜像光栅(22)；该潜像光栅(22)在监测激光器(21)的激光束照射下，产生的衍射光波被光电接收器(23)接收，并经数据处理系统(24)处理后显示在显示器(25)上；利用该全息光栅曝光量实时监测装置对潜像光栅(22)进行曝光全程实时监测，记录全程曝光量实时监测曲线；步骤四，确定曝光截止点；观察显示器(25)记录的潜像光栅衍射光能量变化曲线，当全程曝光量实时监测曲线达到全局最大值位置时确定为曝光截止点，此时停止曝光。