[发明专利]蚀刻液有效
| 申请号： | 200810187717.6 | 申请日： | 2008-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101487122A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 中村幸子;中岛庆一 | 申请（专利权）人： | MEC股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蒋 亭;苗 堃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及蚀刻液，提供即使在高温条件下也能够可靠地维持铜层与绝缘层的密合性，而且能够提高对广泛的绝缘材料的密合性的蚀刻液。一种蚀刻液，是含有硫酸、过氧化氢及水的铜的蚀刻液，含有苯基四唑类和硝基苯并三唑类。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
1. 一种蚀刻液，是含有硫酸、过氧化氢及水的铜的蚀刻液，其特征在于，含有苯基四唑类和硝基苯并三唑类。
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