[发明专利]氢氟酸处理装置

摘要

本发明提供一种氢氟酸处理装置，其在含氢氟酸的废水中添加钙而除去氟化物离子，在该装置中，需调整被处理水的pH，但在具有钙和氟化物离子的反应槽中调整pH，则处理效率降低。另外，pH计直接暴露于含有氢氟酸的废水中，则pH计的传感器易损坏。在向pH调整部的处理槽中加入氢氟酸时加入碱性药剂，使处理槽内第一被处理水pH比废水的大。另外，在处理槽上连接第三路径P3(循环路径)，使第一被处理水循环并调整pH，直至生成pH值在所希望范围的第二被处理水。由于将调整pH后的第二被处理水转移到与钙反应的反应槽中，可防止处理效率的降低。另外，在循环路径上设置pH计，而不是直接暴露于废水中，可保护其不受氢氟酸影响。

主权项

1、一种氢氟酸处理装置，其设置在无尘室内，并与使用氟类材料的半导体处理装置相邻，其用于在从所述半导体处理装置排出的混入有氢氟酸的废水无需从所述无尘室内排出的状态下，对该废水进行处理，其包括：pH调整部，其具有处理槽、连接于所述处理槽的第一路径及第二路径、设置在该处理槽上并用于循环的第三路径，通过所述第一路径向所述处理槽加入所述废水，并通过所述第二路径加入碱性药剂，从而得到pH值比所述废水更大的第一被处理水，该第一被处理水在所述第三路径中循环时，测定并调整pH值，由此得到pH值在所希望范围的第二被处理水；第四路径，转移所述第二被处理水；反应槽，在所述第二被处理水中添加钙成分，生成氟化钙；分离槽，从所述第二被处理水中分离所述氟化钙。