[发明专利]热辅助磁头及其制造方法无效
| 申请号： | 200810188837.8 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101471075A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 小村英嗣;岛泽幸司;田中浩介;高山清市;羽立等 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/31 | 分类号： | G11B5/31 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙 淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种热辅助磁头，其特征在于，如果向第1及第2近场光发生部照射激光等能量线，则在两个近场光发生部的前端发生近场光。利用发生的近场光，加热与介质相对面相对的磁记录介质，使磁记录介质的矫顽力降低。由于主磁极的至少一部分位于包含第1及第2近场光发生部之间的区域的光斑区域内，因此，两个近场光发生部的前端和主磁极非常接近，可以进行高密度的记录。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助 磁头 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种热辅助磁头，其特征在于，具备：在介质相对面上间隔地配置的第1及第2近场光发生部；和至少其一部分位于所述第1及第2近场光发生部之间的主磁极。
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