[发明专利]研磨用组合物有效
申请号: | 200810189530.X | 申请日: | 2008-12-29 |
公开(公告)号: | CN101469253A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 平野达彦;水野博史;大和泰之;安井晃仁 | 申请(专利权)人: | 福吉米股份有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;李平英 |
地址: | 日本岐阜*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及研磨用组合物。本发明提供研磨用组合物,其在制备布线结构体的研磨工序中可以兼顾抑制表面阶梯度的产生和实现高的研磨速度。研磨用组合物,其含有磨料、加工促进剂、用R-POE(式中、R表示具有支链结构的碳原子数为10~16的烷基,POE表示聚氧乙烯链)表示且HLB为7~12的非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、保护膜形成剂、氧化剂和水。 | ||
搜索关键词: | 研磨 组合 | ||
【主权项】:
1. 研磨用组合物,其特征在于,含有(a)磨料;(b)加工促进剂;(c)用R-POE(I)表示且HLB为7~12的至少1种的非离子表面活性剂,式中,R表示具有支链结构的碳原子数为10~16的烷基,POE表示聚氧乙烯链;(d)至少1种的阴离子表面活性剂;(e)与上述非离子表面活性剂和上述阴离子表面活性剂不同的保护膜形成剂;(f)氧化剂;和(g)水而成。
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