[发明专利]清洁装置、清洗槽、清洁方法以及用于制造物件的方法无效
| 申请号： | 200810190355.6 | 申请日： | 2008-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101530852A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 野村进直;柳田芳明;小林秀祐 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社;富士通自控株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张龙哺;陈 晨 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种清洁装置及清洗槽，在该清洁装置中的清洗槽的超声波发生单元对从供给口供至清洗槽中的清洗液施加超声波，并且具有开口的流体射流单元将施加了超声波的清洗液从所述开口喷射至清洁物件的待清洁的区域，所述开口的位置对应于待清洁的物件的待清洁的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 装置 清洗 方法 以及 用于 制造 物件 | ||
【主权项】：
1. 一种清洁装置，其将待清洁的物件放置在清洗槽中并且通过使用清洗液去除所述待清洁的物件表面上的杂质，其中所述清洗槽包括：超声波发生单元，其对所述清洗液施加超声波，以及流体射流单元，所述流体射流单元具有开口，所述开口位于对应于所述待清洁的区域的位置，所述待清洁的区域为所述待清洁的物件的待清洁的部分，其中已经由超声波发生单元施加了超声波的所述清洗液通过所述流体射流单元的所述开口喷射至所述清洁物件的所述待清洁的区域。
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