[发明专利]光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 200810191103.5 | 申请日： | 2008-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN101441420A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;M·W·M·范德维基斯特;C·A·L·德霍恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备以及器件制造方法，尤其涉及一种用于控制物体的位置或位置相关量的控制系统，该系统包括：构造为测量该物体的位置或位置相关量的测量系统；构造为基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号的控制器；以及构造为基于该控制信号驱动该物体的致动器，其中该控制系统还包括至少一个构造为对所测量的位置或位置相关量进行滤波的滤波器单元，其中该至少一个滤波器单元是不完整阶滤波器单元。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于控制物体位置或位置相关量的控制系统，包括：测量系统，配置用于测量该物体的位置或位置相关量；控制器，配置用于基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号；致动器，配置用于基于该控制信号驱动该物体；以及滤波器单元，配置用于对所测量的位置或位置相关量进行滤波，其中该滤波器单元是不完整阶滤波器单元。
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