[发明专利]触控元件表面加工方法无效
申请号: | 200810192931.0 | 申请日: | 2008-12-31 |
公开(公告)号: | CN101768740A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 许棋凯;邱登甲;张正杰 | 申请(专利权)人: | 兆震实业股份有限公司 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C14/06;B05D7/24 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种触控元件表面加工方法,其是在触控工件上涂布硬度1H以上的含有UV树脂的薄膜,再于所述涂布含UV树脂的薄膜表面溅镀纳米无机金属形成一纳米氧化物保护膜,再利用真空溅镀或湿式法于所述纳米氧化物保护膜表面植入氟碳化物以形成纳米氟碳化物防污膜。借由UV树脂的薄膜表面溅镀无机纳米氧化物形成一保护膜,或再于无机纳米氧化物的保护膜再植入氟碳化物处理以形成一含有氟碳化物防污膜,而得以使涂布后的触控工件表面具有防污、不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效的增进。 | ||
搜索关键词: | 元件 表面 加工 方法 | ||
【主权项】:
一种触控元件表面加工方法,其特征在于其加工步骤包括:将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜,所述UV树脂选自聚氨酯系列UV树脂、聚丙烯酸类系列UV树脂或环氧系列UV树脂中的至少一种;再溅镀硅、钛或铝的无机纳米金属靶材于所述薄膜表面,经等离子体氧化形成含二氧化硅、氧化钛或氧化铝的保护层。
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