[发明专利]一种化学机械抛光制程、双氧水的用途和清洗方法无效
| 申请号： | 200810200570.X | 申请日： | 2008-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101683721A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 徐春;杨春晓;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B55/00;C09G1/04;C09G1/02;B24B57/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光制程，包括采用含有选自高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种的抛光浆料进行化学机械抛光及其后续的清洗步骤，该清洗步骤中所用的清洗液为双氧水水溶液。本发明还公开了一种双氧水的用途以及一种在化学机械抛光中与抛光浆料接触的抛光部件及被抛光材料的清洗方法。本发明有效解决了高锰酸，锰酸及其可溶性盐特殊的颜色和可能存在的残留的局限性问题，拓展了其在半导体行业中的应用范围，同时控制金属材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 双氧水 用途 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械抛光制程，包括采用含有选自高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种的抛光浆料进行化学机械抛光及其后的清洗步骤，其特征在于，该清洗步骤中所用的清洗液为双氧水水溶液。
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