[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810201029.0 | 申请日： | 2008-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101724346A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 王晨;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、过氧化氢、过硫酸盐和水，所述的化学机械抛光液的pH为9～12。本发明的化学机械抛光液具有较高的钨的去除速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于：其含有研磨颗粒、过氧化氢、过硫酸盐和水，所述的化学机械抛光液的pH为9～12。
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