[发明专利]化学机械研磨方法、研磨液喷嘴及化学机械研磨设备无效
| 申请号： | 200810201826.9 | 申请日： | 2008-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN101722468A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 弓艳霞;王永华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B57/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械研磨方法、研磨液喷嘴及化学机械研磨设备，以提高研磨效果。该方法采用旋转的研磨垫研磨芯片，包括：向研磨垫上两个以上位置喷入研磨液，所述两个以上位置处于研磨垫不同圆周；在研磨液的作用下研磨芯片。该喷嘴使用在化学机械研磨过程中，所述化学机械研磨过程采用旋转的研磨垫研磨芯片，所述喷嘴具备两个以上喷口，各喷口喷出的研磨液喷在研磨垫的两个以上位置，所述两个以上位置处于研磨垫不同圆周。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 方法 喷嘴 设备 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨方法，采用旋转的研磨垫研磨芯片；其特征在于，包括：向研磨垫上两个以上位置喷入研磨液，所述两个以上位置处于研磨垫不同圆周；在研磨液的作用下，研磨芯片。
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