[发明专利]一种两亲性嵌段共聚物及其聚集体材料及制备方法和应用无效
申请号: | 200810203338.1 | 申请日: | 2008-11-25 |
公开(公告)号: | CN101434684A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | 俞燕蕾;林里;冯泽;颜曾;颜竹君 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | C08F293/00 | 分类号: | C08F293/00;C08F220/34;C08F220/10;C08F212/14;C08F226/06;C08J3/07;C08L53/00 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所 | 代理人: | 翟 羽;何兴元 |
地址: | 200433*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明具体涉及一种新的含有光响应性和pH值敏感性基团的两亲性嵌段共聚物及其在溶液中形成可刺激响应聚集体材料及制备方法。所述的两亲性嵌段共聚物是通过原子转移自由基聚合得到的,在溶液中上述两亲性嵌段共聚物能通过自组装的方法形成纳微米级聚集体材料,该聚集体材料的特点是能通过光和pH值进行调控,可实现聚集体的可逆聚集与解离,具有双重响应特性。这解决了单一响应性材料应用的诸多局限性,故本发明可广泛应用在生物医学、化学催化和合成等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 两亲性嵌段 共聚物 及其 聚集体 材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1、一种两亲性嵌段共聚物,它的化学通式为:
其中R是H,或者是CH3;其中R1是H,或者是C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或上述烃基的衍生物;R2是C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或上述烃基的衍生物;R3是C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,烷氧基、烷硫基、烷氨基、二烷氨基、烷酰基、烷酰氧基、烷酰胺基或烷磺酰基,或上述基团的衍生物;R4是H,或者是C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或烷氧基或是具有极性的端基;R5是含有能与酸或碱发生作用基团的C1~C30的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或上述烃基的衍生物;其中n为5—2500,i为0—500,j为0—500。
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