[发明专利]射频发生器的离线检测装置有效
申请号: | 200810203536.8 | 申请日: | 2008-11-27 |
公开(公告)号: | CN101736315A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 黄国伟 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;G05F1/66;H03G3/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李丽 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种射频发生器的离线检测装置,提供产生控制信号的控制单元以及连接射频发生器、作为控制信号传输通道的接口件,实现对射频发生器工作状态及其输出的信号的控制。本发明射频发生器的离线检测装置利用射频发生器自身的用户端口将射频发生器自身的辅助电压作为自身的工作电压,不需要额外的外部电源,实施简单。另外,本发明便于方便地对所述待测射频发生器的输出信号多次进行操作,从而对待测射频发生器的输出状态进行检测和控制。 | ||
搜索关键词: | 射频 发生器 离线 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种射频发生器的离线检测装置,其特征在于,包括:接口件,用于连接待测射频发生器并提供信号的传输通道;控制单元,耦接于所述接口件,用于产生控制待测射频发生器的工作状态及其输出的信号的控制信号。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的