[发明专利]一种去除光阻层残留物的清洗液无效
| 申请号： | 200810204102.X | 申请日： | 2008-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN101750913A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;彭杏 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种去除光阻层残留物的清洗液，含有N-甲基乙醇胺、其他醇胺、水和螯合剂。该清洗液对非金属和金属的腐蚀速率较低，能够去除晶圆上的光阻残留物。因此该发明的清洗液在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 光阻层 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
一种去除光阻层残留物的清洗液，其包含：N-甲基乙醇胺、其他醇胺、水和螯合剂。
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