[发明专利]一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置无效

专利信息
申请号: 200810207874.9 申请日: 2008-12-26
公开(公告)号: CN101481793A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 王晓飞;王志毅;丰平;王鸿;夏芃;范振华;范继良 申请(专利权)人: 上海拓引数码技术有限公司
主分类号: C23C16/24 分类号: C23C16/24;C23C16/513
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 邓 琪
地址: 200234上海市徐汇区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置,尤其涉及用该薄膜制备设备在基底上快速沉积非晶硅和微晶硅薄膜等,用于太阳电池和平板显示等领域。本装置包括一微波源,一渐变波导管,以及一矩形波导管,所述的渐变波导管连接所述的微波源和所述的矩形波导管,一上端由石英玻璃板密封的一主腔体位于矩形波导管下方,在与矩形波导管和石英玻璃板之间带有一微波馈入窗口与它们相互贴合,至少一布气管通入主腔体内,主腔体内具有一用来装载基底的载物装置,所述矩形波导管与所述基底对应放置,以及一连接主腔体的真空系统。通过采用波导管并排分布的方式产生大面积内均匀的等离子体,本发明的装置能实现在大面积膜沉积的均匀性。
搜索关键词: 一种 大面积 微波 等离子体 化学 沉积 装置
【主权项】:
1. 一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置,包括一微波源,一渐变波导管,以及至少一矩形波导管,所述的微波源、渐变波导管、矩形波导管依次连接,一上端由石英玻璃板密封的一主腔体位于矩形波导管下方,矩形波导管具有一带有微波馈入孔的微波馈入窗口,所述微波馈入窗口与石英玻璃板贴合,至少一布气管通入主腔体内,主腔体内具有一用来装载基底的载物装置,所述矩形波导管与所述基底对应放置,以及一连接主腔体的真空系统。
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