[发明专利]用于电化学和电子装置的水平梯度结构无效
| 申请号： | 200810210151.4 | 申请日： | 2008-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101378132A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 拉森·霍尔沃·皮特;亨德利克森·范戈·皮特;林德罗斯·索伦;莫根森·莫根斯 | 申请（专利权）人： | 丹麦技术大学 |
| 主分类号： | H01M8/02 | 分类号： | H01M8/02;H01M4/86;H01M4/88;H01M8/10 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 丹麦*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 本发明涉及用于电化学和电子装置的水平梯度结构。本发明提供一种梯度多层结构，其包含支撑层(1)和形成梯度层的至少10层(2，3)，其中所述至少10层(2，3)的每一层至少部分地与所述支撑层(1)接触，其中所述至少10层(2，3)在选自层组成、孔隙率和电导率的至少一种性质上彼此不同，且其中将所述至少10层(2，3)排列以使层组成、孔隙率和/或电导率水平于所述支撑层(1)在总的层区域内形成梯度。本发明进一步提供一种梯度多层结构，其包含支撑层(1)和形成梯度层的至少两层(2，3)，其中所述至少两层(2，3)的每一层至少部分地与所述支撑层(1)接触，其中所述至少两层(2，3)在选自层组成、孔隙率和电导率的至少一种性质上彼此不同，其中将所述至少两层(2，3)排列以使层组成、孔隙率和/或电导率水平于所述支撑层(1)在总的层区域内形成梯度，且其中包含所述至少两层(2，3)的梯度层的总厚度为大于5μm。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电化学 电子 装置 水平 梯度 结构 | ||
【主权项】：
1.一种梯度多层结构，其包含支撑层(1)和形成梯度层的至少10层(2，3)，其中所述至少10层(2，3)的每一层至少部分地与所述支撑层(1)接触，其中所述至少10层(2，3)在选自层组成、孔隙率和电导率的至少一种性质上彼此不同，且其中将所述至少10层(2，3)排列以使层组成、孔隙率和/或电导率水平于所述支撑层(1)在总的层区域内形成梯度。
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