[发明专利]基片显影方法及实施该方法的装置无效
| 申请号： | 200810212716.2 | 申请日： | 2008-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101377626A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 吴斗荣;柳寅喆 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 尹洪波 |
| 地址： | 韩国忠南天*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 在实施基片显影处理的装置中，包括相对地设置在用于支承所述基片的基片支承部两侧的第一洗槽和第二洗槽，以清洗显影喷嘴。显影喷嘴以水平方向从第一洗槽朝第二洗槽移动，并同时将显影液施加到基片上。在施加显影液后，显影喷嘴收纳到第二洗槽，该第二洗槽中的清洗液除去附着于显影喷嘴的显影液。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 方法 实施 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基片显影方法，包括：使显影喷嘴离开设置在所述基片一侧的第一洗槽，所述基片由基片支承部支承；在以水平方向朝设置在所述基片另一侧的第二洗槽移动所述显影喷嘴期间，将显影液施加到所述基片上；将所述显影喷嘴收纳到所述第二洗槽内；以及在所述第二洗槽内清洗所述显影喷嘴。
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