[发明专利]接触发光元件、其制造方法以及指纹识别装置有效
申请号: | 200810214013.3 | 申请日: | 2008-08-22 |
公开(公告)号: | CN101656299A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | 蔡尚勋 | 申请(专利权)人: | Testech株式会社 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56;G06K9/00 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余 朦;王艳春 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及能够薄型化、增加光构图的辉度,从而改善指纹图像的质量的接触发光元件与其制造方法及使用该接触发光元件的指纹识别装置。本发明的接触发光元件包括:透明绝缘层(11),形成于透明绝缘层上的透明电极层(12),形成于透明电极层上的发光层(13),形成于发光层上的浸透调节层(14),形成于浸透调节层上的遮光层(15),形成于所述遮光层上的第一保护层(16),和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层(17)。 | ||
搜索关键词: | 接触 发光 元件 制造 方法 以及 指纹识别 装置 | ||
【主权项】:
1.接触发光元件,其特征在于包括:透明绝缘层;透明电极层,形成于所述透明绝缘层上,连接交流电源,接受交流供电;发光层,形成于所述透明电极层上,在与物体接触后,通过供给透明电极层的交流电流过物体而产生的电场而发光,产生基于发光物体的接触面构图的光构图,通过所述透明电极层,照射所述透明绝缘层;浸透调节层,形成于所述发光层上,调节黑色颜料向所述发光层的浸透,防止外部光渗透所述发光层;遮光层,形成于所述浸透调节层上,防止外部光透过所述浸透调节层;第一保护层,形成于所述遮光层上,防止水分浸透所述遮光层,提供粘结力;和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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