[发明专利]接触发光元件、其制造方法以及指纹识别装置有效

专利信息
申请号: 200810214013.3 申请日: 2008-08-22
公开(公告)号: CN101656299A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 蔡尚勋 申请(专利权)人: Testech株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56;G06K9/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 朦;王艳春
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及能够薄型化、增加光构图的辉度,从而改善指纹图像的质量的接触发光元件与其制造方法及使用该接触发光元件的指纹识别装置。本发明的接触发光元件包括:透明绝缘层(11),形成于透明绝缘层上的透明电极层(12),形成于透明电极层上的发光层(13),形成于发光层上的浸透调节层(14),形成于浸透调节层上的遮光层(15),形成于所述遮光层上的第一保护层(16),和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层(17)。
搜索关键词: 接触 发光 元件 制造 方法 以及 指纹识别 装置
【主权项】:
1.接触发光元件,其特征在于包括:透明绝缘层;透明电极层,形成于所述透明绝缘层上,连接交流电源,接受交流供电;发光层,形成于所述透明电极层上,在与物体接触后,通过供给透明电极层的交流电流过物体而产生的电场而发光,产生基于发光物体的接触面构图的光构图,通过所述透明电极层,照射所述透明绝缘层;浸透调节层,形成于所述发光层上,调节黑色颜料向所述发光层的浸透,防止外部光渗透所述发光层;遮光层,形成于所述浸透调节层上,防止外部光透过所述浸透调节层;第一保护层,形成于所述遮光层上,防止水分浸透所述遮光层,提供粘结力;和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于Testech株式会社,未经Testech株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810214013.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top