[发明专利]激光转印装置无效
申请号: | 200810215463.4 | 申请日: | 2008-07-25 |
公开(公告)号: | CN101354531A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 池泽利明 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G02F1/13;B41J2/135;B41M5/382 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种激光转印装置,其能够高速而且正确地使转印板为从缺陷部位向缺陷部位的移动等从规定的高位置向为转印处理的规定的低位置下降,而且,不与转印对象物相撞,进而能够正确地进行转印作业。包括:第一转印头下降控制单元,其累计下降距离,同时在该累计距离达到第一目标高度的下降距离前,以规定的高速度使转印头下降;第二转印头下降控制单元,其累计下降距离,同时在该累计距离达到到自上浮起作用的第二目标高度的下降距离前,以规定的低速度使转印头下降;激光转印单元,其在保持转印板固定器的上下位置而且停止压缩气体喷射的状态下,通过驱动激光源并用激光束聚光照射转印板,在转印对象物的被转印面上转印转印材料薄膜。 | ||
搜索关键词: | 激光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种激光转印装置,其将在具有激光透过性的板状小片的对物面上覆盖转印材料薄膜形成的转印板,经由微小的间隙在转印对象物的被转印面上重合,以使转印材料薄膜与转印对象物的被转印面相对,通过从转印板的上面侧照射激光束,把与照射位置对应的转印材料薄膜转印到转印对象物的被转印面上,其特征在于,包括:激光照射用光学系统,该激光照射用光学系统包括用于把从激光源入射的激光束向转印对象物的被转印面上的目标位置垂直向下照射的物镜;转印头,该转印头具有:头机体;转印板固定器,该转印板固定器在下面侧保持转印板而且在上面侧开有面对下面侧的转印板的转印窗、进而具有向下喷射压缩气体的压缩气体喷射功能;支承机构,该支承机构对于头机体以水平姿势上下运动自如地支承转印板固定器;固定器保持机构,该固定器保持机构在任意的上下位置使转印板固定器的上下运动停止、并且保持该位置,所述转印头的结构为,在从转印对象物的被转印面到规定距离机体下降并接近的状态下,通过由于向被转印面的气体喷射而产生的自上浮作用,使在转印板下面的转印材料薄膜和转印对象物上面的被转印面之间保持转印所需要的微小间隙;头定位机构,该头定位机构至少在垂直方向上可以使转印头上下移动;第一下降距离测量单元,该第一下降距离测量单元测量从规定的基准高度到转印对象物的被转印面的下降距离(A);第二下降距离测量单元,该第二下降距离测量单元测量从规定的基准高度到转印板下表面的转印材料薄膜的下降距离(B);距离计算单元,该距离计算单元从到被转印面的下降距离(A)和到转印材料薄膜的下降距离(B)计算被转印面和转印材料薄膜的距离(A-B);第一转印头下降控制单元,该第一转印头下降控制单元通过驱动控制头定位机构,累计下降距离,同时在该累计距离到达到第一目标高度(H1)的下降距离{(A-B)-H1}前以规定的高速度使转印头下降;第二转印头下降控制单元,该第二转印头下降控制单元通过驱动控制头定位机构,累计下降距离,在该累计距离到达到自上浮作用起作用的第二目标高度(H2)的下降距离{(A-B)-H1-H2}前,对于转印头进行压缩气体喷射,同时以规定的低速度使转印头下降,等待到达第二目标高度后,停止压缩气体喷射,同时使固定器保持机构动作,并且保持转印板固定器的上下位置;和激光转印单元,该激光转印单元在保持转印板固定器的上下位置而且停止压缩气体喷射的状态下,通过驱动激光源把激光束聚光照射并在转印板上,在转印对象物的被转印面上转印转印材料薄膜,由此,在激光束的照射前,利用通过压缩气体喷射产生的自上浮作用,用开环控制引导转印板到达具有转印所需要的微小间隙的高度,并且在引导结束后,利用固定器保持机构的作用,维持转印板的高度,另一方面,在停止压缩气体喷射的静寂状态下,进行通过激光照射的薄膜转印。
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