[发明专利]一种光刻机曝光系统及其控制方法

摘要

本发明适用于计算机直接制版技术光刻领域，提供了一种光刻机曝光系统及其控制方法，光刻机曝光系统包括依次连接的光源、光路系统组件、光刻镜头以及基板；光路系统组件将光源发射的光信号进行调制处理后输出，光刻镜头将光路系统组件输出的光信号聚焦到基版上形成第一光斑；还包括：光学装置、控制器以及曝光镜头组合，控制器控制光学装置将光源发射的光信号射出，曝光镜头组合将光学装置射出的光信号聚焦到基版上形成第二光斑；第二光斑的直径大于第一光斑的直径。本发明提供的光刻机曝光系统采用光学装置改变光信号的传播方向，通过曝光镜头组合将光信号在基版上形成大光斑，不影响精细图形曝光的同时对大片空白区进行快速曝光，提高了光刻机的工作效率。

主权项

1、一种光刻机曝光系统，包括依次连接的光源、光路系统组件、光刻镜头以及基板；所述光路系统组件将所述光源发射的光信号进行调制处理后输出，所述光刻镜头将所述光路系统组件输出的光信号聚焦到所述基版上形成第一光斑；其特征在于，所述光刻机曝光系统还包括：光学装置、控制器以及曝光镜头组合，所述控制器控制所述光学装置将所述光源发射的光信号射出，所述曝光镜头组合将所述光学装置射出的光信号聚焦到所述基版上形成第二光斑；所述第二光斑的直径大于所述第一光斑的直径。