[发明专利]一种A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法有效
申请号: | 200810217297.1 | 申请日: | 2008-11-07 |
公开(公告)号: | CN101403852A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 王金木 | 申请(专利权)人: | 清溢精密光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G03F1/00 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518057广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种A型胶,包括下述重量份的原料:金属纳米阻光材料:58%~78%wt,固化剂:20%~40%wt,稀释剂:0.5%~2%wt,玻璃促进剂:0.1%~1%wt,所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种,所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂,所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种,所述玻璃促进剂为硅胶;还提供了一种采用上述A型胶修补铬版白缺陷的方法。本发明所提供的A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法,解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱性清洗液清洗以及使用CVD修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题,且保证了修补后的黏附力。 | ||
搜索关键词: | 一种 采用 修补 铬版白 缺陷 方法 | ||
【主权项】:
1、一种A型胶,其特征在于:包括下述重量份的原料:金属纳米阻光材料:58%~78%wt、固化剂:20%~40%wt、玻璃促进剂:0.1%~1%wt。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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