[发明专利]一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法无效
| 申请号： | 200810220435.1 | 申请日： | 2008-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101497538A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 刘一军;谢志军;赵存河;李万平;吴耀驹 | 申请（专利权）人： | 萧华 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86;C04B33/34 |
| 代理公司： | 佛山市南海智维专利代理有限公司 | 代理人： | 梁国杰 |
| 地址： | 528211广东省佛山市南海*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法，该方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后，再用胶辊在砖面上印一层花釉，然后用平板厚模印刷一层半透明釉料，再施以立体透明点釉，经1210～1220℃高温烧成后，对立体透明点釉进行半抛形成半抛点釉，产生一个个点光，从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。本发明制备的瓷质仿古砖能机械化批量生产，能完全替代天然石材，成本低廉，环保实用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 立体 半抛带 暗花 装饰 仿古 生产工艺 方法 | ||
【主权项】：
1、一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法，其特征在于：该方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后，再用胶辊在砖面上印一层花釉，然后用平板厚模印刷一层半透明釉料，再施以立体透明点釉，经1210～1220℃高温烧成后，对立体透明点釉进行半抛形成半抛点釉，产生一个个点光，从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。
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