[发明专利]一种克隆生长单壁碳纳米管的方法无效

专利信息
申请号: 200810222216.7 申请日: 2008-09-11
公开(公告)号: CN101671013A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 张锦;姚亚刚;冯超群;刘忠范 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 关 畅;任凤华
地址: 100871北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种克隆生长单壁碳纳米管的方法。该方法是将至少有一端开口的单壁碳纳米管放入化学气相沉积容器中,在所述容器中通入Ar气和H2,其中Ar气和H2的气体流量分别为500sccm、300sccm;将所述容器由室温升至到700℃,并恒温稳定10~60分钟,之后升到二次生长温度900~1050℃,达到二次生长温度后关闭Ar气体,继续通300sccm氢气,然后通入碳源,二次生长5~30分钟,得到克隆生长的单壁碳纳米管;所述碳源为下述a)或b):所述a)为气体流量为50~300sccmCH4和气体流量为1~20sccm C2H4;所述b)为气体流量为50~300sccmCH4和气体流量为1~20sccm C2H4。这种以开口生长机理克隆生长单壁碳纳米管的技术可以推广到其它纳米结构材料的合成中,具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 克隆 生长 单壁碳 纳米 方法
【主权项】:
1、一种生长单壁碳纳米管的方法,将至少有一端开口的单壁碳纳米管放入化学气相沉积容器中,在所述容器中通入Ar气和H2,其中Ar气的气体流量为500sccm,H2的气体流量为300sccm;将所述容器由室温升至到700℃,并恒温稳定10~60分钟,之后升到二次生长温度900~1050℃,达到二次生长温度后关闭Ar气体,继续通300sccm氢气,然后通入碳源,二次生长5~30分钟,得到从所述至少有一端开口的单壁碳纳米管的端部生长出的与所述至少有一端开口的单壁碳纳米管的直径和螺旋度相同的单壁碳纳米管;所述碳源为下述a)或b):所述a)为50~300sccmCH4和1~20sccm C2H4混合碳源;所述b)为50~300sccmCH4和1~20sccm C2H4混合碳源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学,未经北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810222216.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top