[发明专利]等离子体处理设备、其射频装置以及射频输送方法无效
| 申请号： | 200810222559.3 | 申请日： | 2008-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN101677485A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 陈鹏 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 魏晓波;逯长明 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种射频装置，包括依次连接的射频电源、射频匹配器以及电感耦合线圈，所述电感耦合线圈包括中心线圈以及围绕所述中心线圈的至少一组外周线圈；所述中心线圈以及各所述外周线圈相互独立，且各线圈中射频电流的比例能够调整。本发明还公开了一种包括上述射频装置的等离子体处理设备。本发明所公开的射频输送方法通过至少两个相互独立的电感耦合线圈分别向反应腔室的中心部位和外周部位输入射频能量，并根据各部位中等离子体的浓度调整各线圈中射频电流的比例。由于实现了射频能量的分区输送以及分区控制，可以提高所述反应腔室径向上等离子体的均匀性，进而确保等离子体处理设备对加工件进行的精细处理顺利完成。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 射频 装置 以及 输送 方法 | ||
【主权项】：
1、一种射频装置，用于等离子体处理设备，包括依次连接的射频电源、射频匹配器以及电感耦合线圈，其特征在于，所述电感耦合线圈包括位于所述等离子体处理设备反应腔室顶部中心位置的中心线圈，以及围绕所述中心线圈并沿所述反应腔室顶部径向分布的至少一组外周线圈；所述中心线圈以及各所述外周线圈均相互独立，且各线圈中射频电流的比例能够调整。
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