[发明专利]一种采用零点Q值增强技术的双二阶单元有效

专利信息
申请号: 200810227127.1 申请日: 2008-11-21
公开(公告)号: CN101447778A 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 陈勇;周玉梅 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H03H11/04 分类号: H03H11/04;H03H11/12
代理公司: 北京市德权律师事务所 代理人: 王建国
地址: 100029北京市朝*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种采用零点Q值增强技术的双二阶单元,包括:一差分输入级,包括两个PMOS晶体管,接收差分输入信号;一内部源极跟随器,包括两个PMOS晶体管,接收差分输入级的输出信号;一电流源,提供双二阶单元支路电流;一级间差分电容,包括两个电容,确定双二阶单元的极点特性;一反相前馈电容元件,包括两个电容,抵消非理想因素,提高零点Q值;一同相前馈电容元件,包括两个电容,确定双二阶单元的复数共轭零点特性。本发明解决了零点Q值降低的问题,提出一种采用零点Q值增强技术的双二阶单元,可以采用级联设计方法实现零极点型高阶滤波器。
搜索关键词: 一种 采用 零点 增强 技术 双二阶 单元
【主权项】:
1、一种采用零点Q值增强技术的双二阶单元,其特征在于,包括:一差分输入级,包括两个PMOS晶体管,用于接收差分输入信号;一内部源极跟随器,包括两个PMOS晶体管,用于接收所述差分输入级的输出信号;一电流源,用于提供该双二阶单元的支路电流;一级间差分电容,包括两个电容,用于确定该双二阶单元的极点特性;一反相前馈电容元件,包括两个电容,用于抵消非理想因素,提高零点Q值;一同相前馈电容元件,包括两个电容,用于确定该双二阶单元的复数共轭零点特性。
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