[发明专利]光刻胶收集杯的全自动清洗设备

摘要

本发明涉及清洗设备，具体为一种用以清洗用在半导体生产的涂胶显影设备上的专用光刻胶收集杯的全自动清洗设备。该设备分为从上到下的四个部分，分别为电控系统、传输系统、工艺处理系统、供应排废系统。传输系统分为水平移动系统和垂直移动系统两套机械系统，工艺处理系统分为左右两大部分，左侧为加热装置和超声波清洗槽，右侧为热氮气风干装置和喷淋清洗槽，传输系统装载被清洗的光刻胶收集杯，可以根据所编写的工艺程序在工艺单元自动完成整个清洗到最后风干过程。采用本发明可以减少人为清洗引起的二次污染，提高清洗效率，减少人工的劳动强度，提高生产效率。

主权项

一种光刻胶收集杯的全自动清洗设备，其特征在于：该清洗设备分为从上到下的四个部分，分别为电控系统(1)、传输系统(2)、工艺处理系统(3)、供应排废系统(4)；传输系统(2)分为水平移动系统和垂直移动系统两套机械系统，水平移动系统设有水平气缸(8)、水平直线导轨(9)、平台(10)，水平气缸(8)两侧平行设置水平直线导轨(9)，水平气缸(8)和水平直线导轨(9)设置于平台(10)底部，平台(10)与水平直线导轨(9)在水平方向上滑动配合，平台(10)通过连接件与水平气缸(8)的输出部分连接；垂直移动系统设有垂直气缸(11)、防液体飞溅挡板(12)、工件架(13)、垂直导轨(15)，垂直气缸(11)安装于平台(10)上，垂直气缸(11)两侧平行设置垂直导轨(15)，与垂直气缸(11)的输出部分自上而下依次连接防液体飞溅挡板(12)和工件架(13)。