[发明专利]一种金属镁还原工艺及系统有效

专利信息
申请号: 200810229431.X 申请日: 2008-12-09
公开(公告)号: CN101748294A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 王忠心;于国友;曹广和;张晓新;刘雅锋 申请(专利权)人: 沈阳铝镁设计研究院
主分类号: C22B26/22 分类号: C22B26/22
代理公司: 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 21100 代理人: 张立新
地址: 110001 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及有色金属冶炼领域的金属镁冶炼,特别是涉及一种金属镁还原工艺及系统,一种金属镁还原工艺,包括下述步骤:在还原区按抽真空系统分组排列的单体金属镁还原装置完成其还原过程后,由移动装置将其移动至出镁区,进行出镁操作;出完镁的单体金属镁还原装置被移动至出渣区,进行出渣操作;出渣后再移动至装料区,进行装料操作,最后再移动至还原区,进入编组通电加热。本发明的优点效果:节省了镁还原炉运行维护费用,终止了工业废气排放和污染,避免了能源浪费,提高出镁率和综合产量,延长其罐体的使用寿命,有效降低生产成本,有效改善工人的劳动条件,达到余热循环利用的目的。
搜索关键词: 一种 金属镁 还原 工艺 系统
【主权项】:
一种金属镁还原工艺,其特征在于包括下述步骤:在还原区(1)按抽真空系统分组排列的单体金属镁还原装置(5)完成其还原过程后,由移动装置将其移动至出镁区(2),进行出镁操作;出完镁的单体金属镁还原装置被移动至出渣区(3),进行出渣操作;出渣后再移动至装料区(4),进行装料操作,最后再移动至还原区,进入编组通电加热。
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