[发明专利]一种AlSiY扩散涂层的制备工艺无效
申请号: | 200810229663.5 | 申请日: | 2008-12-12 |
公开(公告)号: | CN101748375A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 孙超;姜肃猛;刘山川;李海庆;王启民;宫骏;华伟刚;肖金泉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;C23C14/58;C23C14/54 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及高温防护涂层技术,具体地说是一种AlSiY扩散涂层的制备方法。本发明通过电弧离子镀技术在高温合金基材上沉积AlSiY涂层,再通过真空扩散退火的方法,形成AlSiY扩散涂层。本发明所涉及的这种AlSiY扩散涂层制备工艺具有好的工艺重复性和容易实现工业化生产等优点,制备的涂层与基体材料结合强度高,组织结构致密,成分可控制,有效地提高了涂层表层中Al存储相含量和Si的含量,并加入了稀土元素Y,从而可以提高涂层抗高温氧化、抗热腐蚀性能,并能有效地延长涂层使用寿命。该扩散涂层及其制备方法可应用于Ni基高温合金的防护。 | ||
搜索关键词: | 一种 alsiy 扩散 涂层 制备 工艺 | ||
【主权项】:
一种AlSiY扩散涂层的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:(1)在高温合金基体材料上,通过电弧离子镀沉积AlSiY涂层;(2)采用真空扩散退火的方法,在高温合金基体材料上形成AlSiY扩散涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810229663.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:酸洗液的生产系统及生产方法
- 下一篇:用于电子束蒸发薄膜的样品夹具
- 同类专利
- 专利分类