[发明专利]一种熔渗烧结制备Ti3SiC2材料的方法无效
申请号: | 200810232380.6 | 申请日: | 2008-11-21 |
公开(公告)号: | CN101423395A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | 吕振林;邢志国;李开雄 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | C04B35/56 | 分类号: | C04B35/56;C04B35/622 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 | 代理人: | 罗 笛 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开的一种熔渗烧结制备Ti3SiC2材料的方法,以Ti粉、Si粉和TiC粉或C粉中的一种或两种为原料;用粘结剂和乙醇制得稀释后的粘结剂;将原料和稀释后的粘结剂充分混合后,制坯烘干,得到预制体;在该预制体表面覆盖Si粉,放入氢气气氛保护烧结炉内烧结,以10℃/min升温速度将保护炉内的温度升至1000℃~1100℃,保温30~40分钟,继续以10℃/min的升温速度升温至1300℃~1400℃,保温30~40分钟,再以5℃/min的升温速度至炉内温度为1500℃~1600℃,保温60~70分钟,即制得Ti3SiC2材料。本发明方法制得的Ti3SiC2材料杂质相含量少、气孔率低、致密度好。 | ||
搜索关键词: | 一种 烧结 制备 ti sub sic 材料 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种熔渗烧结制备Ti3SiC2材料的方法,以Ti粉、Si粉和TiC粉或C粉中的一种或两种为原料,均匀混合并制成预制体后,通过熔渗、烧结,制备纯度高、气孔少、致密度高的Ti3SiC2材料,其特征在于,该方法按以下步骤进行:步骤1:混粉按摩尔百分比,分别取粒径为50μm~75μm的Ti粉45%~65%、粒径为65μm~85μm的Si粉5%~25%和粒径为45μm~100μm的TiC粉15%~35%,各组份总量100%,均匀混合,得到混合粉料,或,按摩尔百分比,分别取粒径为50μm~75μm的Ti粉45%~65%、粒径为65μm~85μm的Si粉5%~25%和粒径为60μm~80μm的C粉15%~35%,各组份总量100%,均匀混合,得到混合粉料,或,按摩尔百分比,分别取粒径为50μm~75μm的Ti粉45%~65%、粒径为65μm~85μm的Si粉5%~25%、粒径为45μm~100μm的TiC粉15%~35%和粒径为60μm~80μm的C粉5%~15%,各组份总量100%,均匀混合,得到混合粉料;步骤2:制备稀释的粘结剂按体积百分比,分别取粘结剂30%~40%和乙醇60%~70%,各组份总量100%,混合均匀,制得稀释后的粘结剂;步骤3;制备预制体按质量百分比,分别取步骤1制得的混合粉料80%~90%和步骤2制得的稀释后的粘结剂10%~20%,各组份总量100%,充分混合后,制成坯料,烘干,制得预制体;步骤4:熔渗烧结在上步制得的预制体表面覆盖Si粉,然后,放入氢气气氛保护烧结炉内烧结,控制该保护炉内的升温速度为10℃/min,缓慢升温至1000℃~1100℃,保温30~40分钟,继续以10℃/min的升温速度升温至温度为1300℃~1400℃,保温30~40分钟,之后,以5℃/min的升温速度继续缓慢升温到保护炉内温度为1450℃~1650℃,保温60~70分钟,即制得Ti3SiC2材料。
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