[发明专利]两次及多次曝光采样布拉格光栅及制作方法

摘要

两次及多次曝光采样布拉格光栅，其中两次全息曝光形成的基于重构—等效啁啾技术的采样布拉格光栅，在一个采样区间分成长度相等的两个部分，写入两种不同相位的布拉格光栅。两个部分包含的布拉格光栅之间的相位差为π时，0级及所有其他偶数级影子光栅消失，±1级强度达到最大值，为均匀DFB结构光栅的64％，是一次曝光采样光栅±1级强度的两倍。将采样布拉格光栅每个采样分成等距离的m个部分，每个采样的中的第n部分的相位是n×(2π/m)，该采样光栅的1级影子光栅的有效强度最大，为均匀布拉格光栅的m/π×sin(π/m)×100％；或者每个采样的中的第n部分的相位是-n×(2π/m)，该采样光栅的-1级影子光栅的有效强度最大，为均匀布拉格光栅的m/π×sin(π/m)×100％。

主权项

1、一种基于重构—等效啁啾技术的采样布拉格光栅，利用全息曝光技术形成的光波导器件，其特征是该采样布拉格光栅每个采样分成等距离的m个部分，每个采样的中的第n部分(n＝0，1，...，m-1)的相位是n×(2π/m)，，该采样光栅的1级影子光栅的有效强度最大，为均匀布拉格光栅的m/π×sin(п/m)×100％；或者每个采样的中的第n部分的相位是-n×(2π/m)，该采样光栅的-1级影子光栅的有效强度最大，为均匀布拉格光栅的m/π×sin(п/m)×100％。