[发明专利]一种催化氧化体系及其在他唑巴坦合成中的应用有效
申请号: | 200810238478.2 | 申请日: | 2008-12-19 |
公开(公告)号: | CN101434609A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | 梁新魁;聂爱华;刘金兰;郝春波;吴柯;李保勇 | 申请(专利权)人: | 齐鲁天和惠世制药有限公司 |
主分类号: | C07D499/04 | 分类号: | C07D499/04;C07D499/86 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵会祥 |
地址: | 250105山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种催化氧化体系及其在他唑巴坦合成中的应用。钨酸盐类催化剂或钼酸盐类催化剂和双氧水氧化剂组成的催化氧化体系用于他唑巴坦合成中催化氧化青霉烷酸制备青霉烷酸亚砜类中间体I,该反应具有收率高、反应选择性好、催化剂可以回收利用等绿色化学所要求的特点。其中,R1代表羧基保护基团;R2和R3可以是相同对的或不同的基团,如H、卤素分子、NH2、酰胺基团等。 | ||
搜索关键词: | 一种 催化 氧化 体系 及其 唑巴坦 合成 中的 应用 | ||
【主权项】:
1. 一种催化氧化体系,其特征在于由过氧催化剂和双氧水氧化剂组成,过氧催化剂与氧化剂双氧水的摩尔比例为0.01~50:1,优选0.1~50:1;所述过氧催化剂是钨酸盐类催化剂或钼酸盐类催化剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于齐鲁天和惠世制药有限公司,未经齐鲁天和惠世制药有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810238478.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C07 有机化学
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物