[发明专利]成膜载板及太阳能电池的生产方法有效
申请号: | 200810239693.4 | 申请日: | 2008-12-15 |
公开(公告)号: | CN101748378A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 李永军 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/513;C23C16/455;H01L31/18;H01L21/00 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 赵镇勇 |
地址: | 100016 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种成膜载板及太阳能电池的生产方法,成膜载板上开有多个通孔,分纵、横多排布置,将成膜载板分割成多个区域,每个区域可以放置成膜的基片。在成膜工艺中,工艺气体可以从成膜载板的四周及通孔中均匀通过,提高气体在成膜载板上方的均匀性,从而提高成膜的均匀性。可以用在硅太阳能电池制作工艺中,在多晶硅层上沉积氮化硅减反射层,也可以用于其它的半导体加工中的薄膜制作工艺中。 | ||
搜索关键词: | 成膜载板 太阳能电池 生产 方法 | ||
【主权项】:
一种成膜载板,其特征在于,该成膜载板上开有多个通孔。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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