[发明专利]一种制备ZnO多沟道纳米线场效应晶体管的方法无效
| 申请号： | 200810240074.7 | 申请日： | 2008-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN101752256A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 黎明;徐静波;付晓君 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备ZnO多沟道纳米线场效应晶体管的方法，包括：准备高掺杂的P++衬底；在高掺杂的P++衬底的正面蒸发一层SiO2形成栅氧；采用HF湿法腐蚀去掉高掺杂P++衬底背面的氧化层，背金形成栅极；在栅氧上光刻蒸发源漏金属电极；采用乙醇水解超声的方法使ZnO纳米线从本征玻璃衬底上面剥离下来；将剥离下来的多条ZnO纳米线随机滴入P型Si衬底的源漏金属电极上进行定位，使ZnO纳米线作为场效应晶体管的沟道将源漏电极搭接起来，形成ZnO多沟道纳米线场效应晶体管。本发明突破了单根纳米线场效应晶体管器件电流限制，获得相对大的开态电流和提高不同器件的驱动电流能力，为进一步传感器的制作打下坚实的基础。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 zno 沟道 纳米 场效应 晶体管 方法 | ||
【主权项】：
一种制备ZnO多沟道纳米线场效应晶体管的方法，其特征在于，该方法包括：准备高掺杂的P++衬底；在高掺杂的P++衬底的正面蒸发一层SiO2形成栅氧；采用HF湿法腐蚀去掉高掺杂P++衬底背面的氧化层，背金形成栅极；在栅氧上光刻蒸发源漏金属电极；采用乙醇水解超声的方法使ZnO纳米线从本征玻璃衬底上面剥离下来；将剥离下来的多条ZnO纳米线随机滴入P型Si衬底的源漏金属电极上进行定位，使ZnO纳米线作为场效应晶体管的沟道将源漏电极搭接起来，形成ZnO多沟道纳米线场效应晶体管。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
