[发明专利]新真空低压离子渗碳炉无效

专利信息
申请号: 200810242810.2 申请日: 2008-12-26
公开(公告)号: CN101497981A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 顾啸强 申请(专利权)人: 苏州市万泰真空炉研究所有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200江苏省吴江市吴江松陵*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明为新型的离子渗碳炉,目前我国的真空油淬炉两室的每次油淬结束后,要等到温度降低到一定范围内,才可打开炉门,以防止氧化,再做第二批工件时,要重新抽真空到工艺标准,重新加温。这种炉子不仅可以施行低离子渗碳、气冷、油淬;还可以施行等离子碳氮共渗,低温、高温等离子渗氮,工具钢、马氏体不锈钢的高浓度渗碳以及所有在真空条件下500~13000C的各种热处理。气淬炉压力可达到0.6MPa,油淬温度可高900C,气体温度最高400C。
搜索关键词: 真空 低压 离子 渗碳
【主权项】:
本新型三室炉体由气淬室、加热室、油淬出料室、真空泵组组成。加热室两端都有隔热门,真空泵组分三个管道通往三室,且都装有密封调节阀可选择抽真空的炉室。
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