[发明专利]高真空溶盐炉TD处理在审
| 申请号： | 200810242811.7 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101497983A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 顾啸强 | 申请（专利权）人： | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/44 | 分类号： | C23C8/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215200江苏省吴江市吴江松陵*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是TD法处理工艺可用于要求高耐磨的各种冷作模具和热作模具。目前CVD、PVD、TD法都能得到同样硬度的薄碳化物层，TD处理是用熔盐浸镀法电解法及粉末法进行扩散表面硬化处理。TD发处理工艺可用于要求高耐磨的各种冷作模具和热作模具。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 溶盐炉 td 处理 | ||
【主权项】：
在高真空状态下，采用TD法获得碳化物涂层的工艺也有一定的局限性，应用于模具的表面硬化时，要注意以下几点：①处理温度高，渗层会引起尺寸胀大，对高精度模具应采取措施，预防变形；②处理前模具必须加工到要求的表面粗糙度，以保证处理后的表面质量；③当载荷过大，引起模具产生塑性变形时，会引起碳化物层产生裂纹；④薄刃模具在薄刃处供碳不足，难以形成厚的碳化物层；⑤对基体材料的含碳量应合理选择，在不影响钢的韧性和其他性能的条件下，应保证能够提供足够的碳，以行成碳化物；⑥模具在5000C以上氧化性气氛中长期使用，会使VC、NbC等碳化物层氧化，影响其性能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市万泰真空炉研究所有限公司，未经苏州市万泰真空炉研究所有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810242811.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：氮化硅酸盐类荧光材料和具有这类荧光材料的光源
- 下一篇：新真空低压离子渗碳炉
- 同类专利
- 专利分类
