[发明专利]铪酸镧中杂质的发射光谱分析方法无效
申请号: | 200810247480.6 | 申请日: | 2008-12-31 |
公开(公告)号: | CN101769861A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 钱伯仁;王长华;潘元海;墨淑敏 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17;G01N21/00 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 程凤儒 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种铪酸镧中杂质的光谱分析方法,该方法包括:(1)以样品标准中各单质元素含量为1wt%计算各单质相应氧化物的质量并称量,其总质量为X,称取为样品标准4wt%的碳粉,二者混合后形成碳标,向该碳标中加入质量为Y的铪酸镧,其中X+Y为样品标准的90wt%,再加入为样品标准6wt%的光谱载体AgCl和Ga2O3,得到样品标准,AgCl与Ga2O3的质量比为2∶1;(2)按照步骤(1)配制各单质元素的含量为0.1~0.0001wt%的样品标准;(3)称取90重量份的铪酸镧样品及4重量份的碳粉,4重量份的AgCl和2重量份的Ga2O3混合得到样品空白;(4)对所得样品标准和样品空白进行摄谱;测量分析线的黑度S,用S-logC绘制工作曲线;用直线拉直法与计算法确定分析结果,该方法不受样品基体形式的限制,减少了光谱分析条件的干扰,提高了分析的精确度。 | ||
搜索关键词: | 铪酸镧中 杂质 发射光谱分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种铪酸镧中杂质的光谱分析方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)确定所要分析的铪酸镧样品中杂质,根据铪酸镧样品中杂质制备样品标准,以样品标准中各杂质元素含量为1wt%计算各杂质相应氧化物的质量并称量,其总质量为X,称取为样品标准4wt%的碳粉,将所述各杂质相应氧化物与所述碳粉混合后形成碳标,然后向碳标中加入质量为Y的铪酸镧,其中X+Y为样品标准的90wt%,再加入为样品标准6wt%的光谱载体AgCl和Ga2O3,得到样品标准,所述载体中AgCl与Ga2O3的质量比为2∶1;(2)按照步骤(1)配制各杂质元素的含量为0.1~0.0001wt%中的若干个不同的杂质含量的一系列样品标准;(3)称取90重量份的铪酸镧样品及4重量份的碳粉,4重量份的AgCl和2重量份的Ga2O3混合得到样品空白;(4)对步骤(1)、(2)和(3)中所得的样品标准和样品空白进行摄谱;(5)试验选择杂质元素的分析线,测量分析线的黑度S,用S-logC绘制工作曲线,其中,C为样品标准和样品空白中的杂质含量值;(6)用直线拉直法与计算法确定分析结果,用直线拉直法分析低含量杂质,用计算法估算较高含量杂质,该计算法通过公式C0=I0Ci/(Ii+0-I0)进行分析,其中C0为样品标准中所加样品的杂质含量,Ci为碳标中杂质的加入量,Ii+0、I0为Ci+0、C0对应的分析线强度,其中Ci+0为样品标准中杂质的含量,求出的3个C0取平均值
作为估计值,将
与S0及Ci+0与Si+0点入S-logC坐标中绘制工作曲线,其中S0、Si+0分别由I0、Ii+0求对数得到,工作曲线上对应样品空白黑度S的C即为分析值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院,未经北京有色金属研究总院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810247480.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:煤矿乏风瓦斯热氧化装置的气流换向控制方法
- 下一篇:一种数据处理装置及其方法