[发明专利]取向膜摩擦工艺及设备有效
| 申请号： | 200810247543.8 | 申请日： | 2008-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN101770115A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 车春城 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种取向膜摩擦工艺及设备，涉及液晶显示器件的加工工艺和设备，解决了现有取向膜摩擦工艺中会出现取向膜沟痕不均匀、生产效率低的情况。本发明实施例包括：在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；然后在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；并且在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；最后分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。本发明实例主要用于液晶显示器件加工过程中，对薄膜进行摩擦得到取向膜的工艺中，例如：在彩色滤光片基板和TFT阵列基板形成取向膜的工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 摩擦 工艺 设备 | ||
【主权项】：
一种取向膜摩擦工艺，其特征在于，包括：在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；该工艺还包括：(1)在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；(2)在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；(3)分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。
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