[发明专利]光学镀膜装置无效
| 申请号： | 200810306247.0 | 申请日： | 2008-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101750639A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 吴佳颖 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;C23C14/24;C23C14/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内。所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，且所述镀膜挡板靠近所述待镀元件承载架。所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板可将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。本发明所提供的光学镀膜装置可精确控制镀膜厚度，并提高镀膜品质。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内，其特征在于，所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。
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