[发明专利]化学气相沉积系统无效
| 申请号： | 200810306514.4 | 申请日： | 2008-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN101760728A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 裴绍凯 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学气相沉积系统，其包括进气装置、抽气装置以及连接于进气装置与抽气装置之间的反应器，该反应器内设置有用于放置基底的载具，该反应器内位于进气装置与抽气装置之间设置多个隔板，每一隔板均具有至少一个通孔，相邻两个隔板间的通孔相互错开。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积系统，其包括进气装置、抽气装置以及连接于进气装置与抽气装置之间的反应器，该反应器内设置有用于放置基底的载具，其特征在于，该反应器内位于进气装置与抽气装置之间设置多个隔板，每一隔板均具有至少一个通孔，相邻两个隔板间的通孔相互错开。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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