[实用新型]可发光辅助校准的定位装置

摘要

一种可发光辅助校准的定位装置，包括一机台；一工作承座设于机台上；一定位结构设于工作承座上；定位结构具有一第一及一第二面；至少一发光部；一真空吸引部设于定位结构上，其包括一吸引槽道，内凹分布于定位结构的第二面上；一第一气孔开设于定位结构的第二面上，且连通吸引槽道；一第二气孔开设于定位结构的第一面上；一通气道设于定位结构内部，且连通第一及第二气孔；一工作气体供应部，设于定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于定位结构的第二面上；一第四气孔开设于定位结构的第一面上，连通多个第三气孔。本实用新型具有辅助背光的标号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻易定位。

主权项

1.一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括：一机台；一工作承座，设于该机台上；一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构具有一第一面及一第二面；至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝该第二面的方向发光；一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括：一吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上；一第一气孔，开设于该定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道；一第二气孔，开设于该定位结构的第一面上；一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力；一工作气体供应部，设于该定位结构内部，其包括：多个第三气孔，开设于该定位结构的第二面上，且围绕于该吸引槽道外周；一第四气孔，开设于该定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔。