[实用新型]双面曝光机的对位调整装置有效
申请号: | 200820002804.5 | 申请日: | 2008-02-18 |
公开(公告)号: | CN201171248Y | 公开(公告)日: | 2008-12-24 |
发明(设计)人: | 张鸿明 | 申请(专利权)人: | 川宝科技股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/06 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型是有关于一种双面曝光机的对位调整装置,设于印刷电路曝光机中的固定座上,至少由一第一微动承座、一第二微动承座、一第一动力源、一第二动力源、一第三动力源、以及一微动平板所组成。借由其三个动力源,分别驱动第一微动承座与第二微动承座进行横向、纵向平移,而移动该微动平板,以达到印刷电路的曝光对位的目的。 | ||
搜索关键词: | 双面 曝光 对位 调整 装置 | ||
【主权项】:
1.一种双面曝光机的对位调整装置,其特征在于:设于印刷电路曝光机的一固定座上,调动一曝光物至曝光定位,该双向对位装置至少包含:一第一微动承座,设于该固定座上,且该第一微动承座自底部至顶部,依序叠置设有一第一Y向滑动单元、一第一X向滑动单元、以及一第一θz向转盘;一第一动力源,搭载于该固定座上,且连接于该第一Y向滑动单元,以驱动该第一Y向滑动单元沿Y方向滑动;一第二微动承座,设于该固定座上,且该第二微动承座自底部至顶部,依序叠置设有一第二X向滑动单元、一第二Y向滑动单元、以及一第二θz向转盘;一第二动力源,搭载于该第二X向滑动单元的一侧,且连接于该第二Y向滑动单元,以驱动该第二Y向滑动单元沿Y方向滑动;一第三动力源,搭载于该固定座上,且连接于该第二X向滑动单元,以驱动该第二X向滑动单元沿X方向滑动;以及一微动平板,枢设于该第一θz向转盘与该第二θz向转盘上,用以放置该曝光物。
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