[实用新型]双面曝光机的对位调整装置有效

专利信息
申请号: 200820002804.5 申请日: 2008-02-18
公开(公告)号: CN201171248Y 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 张鸿明 申请(专利权)人: 川宝科技股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/06
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型是有关于一种双面曝光机的对位调整装置,设于印刷电路曝光机中的固定座上,至少由一第一微动承座、一第二微动承座、一第一动力源、一第二动力源、一第三动力源、以及一微动平板所组成。借由其三个动力源,分别驱动第一微动承座与第二微动承座进行横向、纵向平移,而移动该微动平板,以达到印刷电路的曝光对位的目的。
搜索关键词: 双面 曝光 对位 调整 装置
【主权项】:
1.一种双面曝光机的对位调整装置,其特征在于:设于印刷电路曝光机的一固定座上,调动一曝光物至曝光定位,该双向对位装置至少包含:一第一微动承座,设于该固定座上,且该第一微动承座自底部至顶部,依序叠置设有一第一Y向滑动单元、一第一X向滑动单元、以及一第一θz向转盘;一第一动力源,搭载于该固定座上,且连接于该第一Y向滑动单元,以驱动该第一Y向滑动单元沿Y方向滑动;一第二微动承座,设于该固定座上,且该第二微动承座自底部至顶部,依序叠置设有一第二X向滑动单元、一第二Y向滑动单元、以及一第二θz向转盘;一第二动力源,搭载于该第二X向滑动单元的一侧,且连接于该第二Y向滑动单元,以驱动该第二Y向滑动单元沿Y方向滑动;一第三动力源,搭载于该固定座上,且连接于该第二X向滑动单元,以驱动该第二X向滑动单元沿X方向滑动;以及一微动平板,枢设于该第一θz向转盘与该第二θz向转盘上,用以放置该曝光物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于川宝科技股份有限公司,未经川宝科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200820002804.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top